פתרון טחינת משטח דו צדדי עבור יריעות קרמיקה מתקדמת

דגם מכונה:מטחנת דיסק כפול YHDM580B דיוק גבוה;

חלקי עבודה:צלחת קרמיקה ניטריד אלומיניום;

דְרִישָׁה:הסר כמות 0.17-0.21 מ"מ, שטוחות 0.02 מ"מ, חספוס Ra 0.6um;

מוצרי קרמיקה AlN משמשים בעיקר במעגלים היברידיים בצפיפות גבוהה, התקני כוח מיקרוגל, התקני כוח מוליכים למחצה, התקני חשמל, רכיבים אופטואלקטרוניים, קירור מוליכים למחצה ומוצרים אחרים כחומרי מצע וחומרי אריזה בעלי ביצועים גבוהים.-מצע לגוף קירור, חבילת LED מצע, מצע מוליכים למחצה, מצע מעגל סרט דק, מצע נגד הספק-אופטו-אלקטרוניקה-שכבות דיאלקטריות במדיות אחסון אופטיות-מצעים אלקטרוניים, נושאי שבבים שבהם מוליכות תרמית גבוהה חיונית;-יישומים צבאיים